真空碳管爐

簡(jiǎn)要描述：真空碳管爐用途：適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備

生產(chǎn)地址：上海
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-10-16
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真空碳管爐

GR.VCTF系列真空碳管爐詳細(xì)介紹

GR.VCTF系列，具有*的性能設(shè)計(jì)，集多項(xiàng)于一身，安全性，可靠性，實(shí)用性均達(dá)*效果。

一、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介：

本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、爐底、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等組成。

爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，保持爐殼溫度不超過(guò)60℃。爐蓋打開(kāi)方式為手動(dòng)，爐蓋上設(shè)有觀察孔。爐體內(nèi)有用石墨做成的保溫層，發(fā)熱元件采用石墨棒。1000℃-2300℃采用紅外為傳感器。

真空系統(tǒng)采用二級(jí)泵，即650分子泵與2X-15機(jī)械泵，機(jī)械泵上設(shè)有電磁放氣閥避免停電后返油。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。

電氣控制采用大電流變壓器、調(diào)壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執(zhí)行回路。電路設(shè)有斷水、過(guò)流、超溫報(bào)警及保護(hù)功能。

二、技術(shù)參數(shù)：

1.額定功率：50KW

2.zui高溫度：2500℃

3.工作區(qū)尺寸：Ф60×120

4.極限真空度：6.67×10-4Pa

5.溫度控制：紅外自動(dòng)控制

真空熔煉爐

GR.VMF系列真空熔煉爐詳細(xì)介紹

GR.VMF系列真空熔煉爐，具有*的性能設(shè)計(jì)，集多項(xiàng)于一身，安全性，可靠性，實(shí)用性均達(dá)*效果。

小型真空熔煉爐廣泛應(yīng)用于大專院校及科研單位，在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。

一、技術(shù)參數(shù)

1．設(shè)備名稱：真空感應(yīng)熔煉爐

2．冷態(tài)極限真空度：5×10﹣3Pa

3．額定溫度：1700℃

4. 額定功率：15KW

5. ;坩堝容量：100g～500g（熔液）

6．壓升率：≤2Pa／h

7．中頻電源：IGBT

二、結(jié)構(gòu)說(shuō)明

本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、澆注裝置、真空系統(tǒng)及高頻電源控制系統(tǒng)等組成。

1、爐體：為全不銹鋼結(jié)構(gòu)。爐殼采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，爐殼溫度不超過(guò)50℃。爐蓋打開(kāi)方式為手動(dòng)，并加有鎖緊裝置，爐蓋上設(shè)有觀察孔及屏蔽等。

2、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)：與爐體用法蘭連接，感應(yīng)線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出，采用威爾遜密封，密封可靠。

3、澆注裝置：在坩堝旁邊從爐體內(nèi)生一平臺(tái)，上面放置錠模，料熔煉好以后轉(zhuǎn)動(dòng)手柄，將坩堝內(nèi)的料傾倒在錠模內(nèi)。

4、真空系統(tǒng)：采用二級(jí)泵，油擴(kuò)散泵（或分子泵）與直聯(lián)泵。真空機(jī)組上設(shè)有放氣閥及充氣閥。

5、電源：電源采用IGBT進(jìn)口功率器件，更加集成化小型化，有效輸出功率達(dá)到90%以上，省電節(jié)能，比傳統(tǒng)可控硅中頻節(jié)能60%！，電氣系統(tǒng)設(shè)有過(guò)流、過(guò)壓返饋及保護(hù)電路。

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